?鋁氧化加工是一種通過化學(xué)或電化學(xué)方法在鋁及其合金表面形成氧化膜的工藝，能夠提高鋁制品的耐腐蝕性、耐磨性、裝飾性等性能。
東莞鋁氧化加工主要有陽極氧化、化學(xué)氧化和微弧氧化三種方式，其工作原理分別如下：
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陽極氧化原理
氧化膜生成：將鋁制品作為陽極置于酸性電解液中，通以直流電后，電解液中的陰離子（如硫酸根離子）在電場作用下向陽極移動，并在陽極表面失去電子發(fā)生氧化反應(yīng)，同時(shí)，鋁基體也失去電子生成鋁離子。鋁離子與電解液中的氧離子結(jié)合，在鋁表面形成一層氧化鋁薄膜。
氧化膜生長：隨著氧化反應(yīng)的進(jìn)行，氧化膜不斷生長。由于氧化鋁膜具有一定的阻擋作用，使得電解液中的離子通過氧化膜的孔隙到達(dá)鋁基體表面繼續(xù)反應(yīng)，從而使氧化膜逐漸增厚。
孔隙形成：在氧化過程中，由于氧化膜的形成和溶解同時(shí)存在，使得氧化膜表面形成許多微小的孔隙。這些孔隙可以通過后續(xù)的封閉處理來提高氧化膜的耐腐蝕性和其他性能。
化學(xué)氧化原理
化學(xué)反應(yīng)成膜：鋁制品浸泡在含有氧化劑和其他添加劑的化學(xué)溶液中，鋁表面與溶液中的氧化劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一層氧化膜。這層氧化膜主要由氧化鋁和其他金屬鹽組成，其厚度一般比陽極氧化膜薄。
自催化反應(yīng)：化學(xué)氧化過程中存在自催化反應(yīng)。當(dāng)鋁表面開始形成氧化膜后，氧化膜中的某些成分會促進(jìn)溶液中的氧化劑與鋁的反應(yīng)，使得氧化膜能夠繼續(xù)生長。但由于沒有外部電場的作用，氧化膜的生長速度相對較慢，且厚度有限。
微弧氧化原理
等離子體放電：將鋁制品置于特殊的電解液中，施加較高的電壓。當(dāng)電壓達(dá)到一定值時(shí)，鋁表面會產(chǎn)生微弧放電現(xiàn)象，形成等離子體區(qū)域。在等離子體的高溫、高壓作用下，鋁表面的氧化反應(yīng)被極大地加速，形成一層陶瓷質(zhì)的氧化膜。
膜層形成與生長：微弧氧化過程中，氧化膜的形成和生長是一個(gè)復(fù)雜的過程。一方面，等離子體放電產(chǎn)生的高溫使得鋁表面迅速氧化；另一方面，電解液中的各種離子也會參與到氧化膜的形成中，與鋁離子結(jié)合形成復(fù)雜的氧化物結(jié)構(gòu)。隨著氧化時(shí)間的延長，氧化膜不斷增厚，其硬度、耐磨性和耐腐蝕性等性能也遠(yuǎn)優(yōu)于普通的陽極氧化膜。
